苏州钜顺贸易有限公司专业供应各种镀膜用离子源
简介:
Mark Ⅱ离子源
光学镀膜产业最被广泛使用的离子源
Mark Ⅱ离子源+无栅极式离子源(灯丝式,水冷式,3000W,10A)
特色:
1.Mark Ⅱ离子源为光学镀膜产业最被广泛使用的离子源,除了延续Ion Tech及Commonweath Scientifics的传统优点之外,更加入许多Veeco的独特的设计
2.Mark Ⅱ相较其他同型离子源,可提供更高的离子电流,以3000W的放电功率为例,使用O2气体的最大离子电流可达3.4mp,相较其他同型的离子源,增加了30-40%,可支援高镀率制程需求。
功能及应用
MarkⅡ的应用在光学镀膜制程
1.离子辅助镀膜
2.镀膜前表面清洁
3.MarkⅡ的功能在改善及提升镀膜的效率
4.薄膜附著力
5.薄膜密度
6.薄膜应力
7.薄膜结构
8.薄膜光学特性(折射、吸收)
其他系列
1.中和式(中却阴极)水冷式.MARKⅢ离子源
2.16cm RF射频离子源
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KRI离子源
KRI无栅式灯丝型离子源EH1025 F
优点:
1.模组化的设计,随插即用。容易维护,体积缩小30%
2.低温制程
功能:
增加镀膜接着 ? ? ? 增加镀膜密度
控制镀膜组成结构 ? ?增加折射率
降低镀膜吸收及散射 ? 镀膜界面平整化
增加薄膜硬度及耐磨性 ?控制镀膜应力
应用:
离子辅助镀膜 ? 清洁 ? ?蚀刻
其他系列
中和式离子源或RF
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