苏州钜顺贸易有限公司专业供应各种镀膜用离子源

简介：

Mark Ⅱ离子源

光学镀膜产业最被广泛使用的离子源

Mark Ⅱ离子源+无栅极式离子源（灯丝式，水冷式，3000W，10A）

特色：

1.Mark Ⅱ离子源为光学镀膜产业最被广泛使用的离子源，除了延续Ion Tech及Commonweath Scientifics的传统优点之外，更加入许多Veeco的独特的设计

2.Mark Ⅱ相较其他同型离子源，可提供更高的离子电流，以3000W的放电功率为例，使用O2气体的最大离子电流可达3.4mp，相较其他同型的离子源，增加了30-40％，可支援高镀率制程需求。

功能及应用

MarkⅡ的应用在光学镀膜制程

1.离子辅助镀膜

2.镀膜前表面清洁

3.MarkⅡ的功能在改善及提升镀膜的效率

4.薄膜附著力

5.薄膜密度

6.薄膜应力

7.薄膜结构

8.薄膜光学特性（折射、吸收）

其他系列

1.中和式（中却阴极）水冷式．MARKⅢ离子源

2.16cm RF射频离子源

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KRI离子源

KRI无栅式灯丝型离子源EH1025 F

优点：

1.模组化的设计，随插即用。容易维护，体积缩小30％

2.低温制程

功能：

增加镀膜接着 ? ? ? 增加镀膜密度

控制镀膜组成结构 ? ?增加折射率

降低镀膜吸收及散射 ? 镀膜界面平整化

增加薄膜硬度及耐磨性 ?控制镀膜应力

应用：

离子辅助镀膜 ? 清洁 ? ?蚀刻

其他系列

中和式离子源或RF

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